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MEMS 液晶光衰減器陣列及制作方法MEMS 液晶光衰減器陣列及制作方法 發布時間：2019-02-26 13:45 成果簡介 本發明具體涉及一種 MEMS 液晶光衰減器陣列及制作方法。MEMS 液晶光衰減器陣列由單晶硅襯底、入射光纖和出射光纖耦合陣列、填充聚合物分散液晶材料的液晶微槽組成，在硅基衰減器陣列中，將光纖對接耦合陣列結構與液晶材料衰減功能單元合并為一體，通過 ITO 透明導電電極施加電場控制聚合物分散液晶材料，可以實現對不同光通路中聚合物分散液晶材料的調制，從而實現對多個光通路的光的衰減，進而完成本發明 MEMS 液晶光衰減器陣列的目的。 研究團隊 電子科學與工程學院陳維友教授研發團隊 成果成熟度 可產業化 應用領域及市場前景 本發明屬于光電子器件領域，其主要作用是用來減低或控制光信號。隨著 DWDM 傳輸系統的 EDFA 在光通信中的應用，在多個光信號傳輸通道上 必須進行增益平坦化或信道功率均衡，在光接收器端要進行動態飽和的控制，光網絡中也還需要對其它信號進行控制，這些都得使可變光衰減器成為其中不可或缺的關鍵器件。  合作方式 技術轉讓 上一篇技術需求下一篇基于神經再分布技術的肌電仿生手臂系統 |
